ASML ya no es el único fabricante en el mundo de máquinas EUV, que se emplean para la producción de ‘chips’ con nodos menores a los 7 nanómetros.
CHINA.
(RT en Español)- En medio de la escalada de restricciones tecnológicas y tensiones geopolíticas, China logró un gran avance en la tecnología para la fabricación de circuitos electrónicos avanzados, al construir una fuente de luz ultravioleta extrema (EUV) con parámetros competitivos a nivel internacional, informó el martes South China Morning Post.
Los responsables de este hito fueron científicos del Instituto de Óptica y Mecánica de Precisión de Shanghái, dirigidos por Lin Nan, quien anteriormente trabajó como jefe de tecnología de fuentes de luz en la compañía ASML, de Países Bajos.
ASML es el único fabricante en el mundo de máquinas EUV, que se emplean para la producción de ‘chips’ con nodos menores a los 7 nanómetros. No obstante, desde 2019 tiene prohibido vender sus modelos más avanzados a China debido a los controles de exportación del Departamento del Comercio de EE.UU. y otras regulaciones.
China rompe la barrera
Ahora, los investigadores chinos han desarrollado una plataforma experimental basada en láseres de estado sólido, no muy diferente al equipo comercializado por ASML, que emplea luz emitida por un láser de dióxido de carbono (CO2) para transferir patrones de circuitos al silicio y otros sustratos.
Los láseres de CO2 ofrecen una mayor potencia (10 kilovatios) y una alta frecuencia de repetición, a diferencia de los sistemas de estado sólido. Sin embargo, son más voluminosos y tienen una menor eficiencia al conectarse a la red eléctrica, además de que son demasiado costosos en términos operativos y de electricidad.
Actualmente los láseres de pulso de estado sólido han alcanzado una potencia de salida a nivel de kilovatios, con el potencial de llegar a más de 10 veces esa cantidad en el futuro.
Según un artículo publicado en Chinese Journal of Lasers, al usar un láser de estado sólido del tamaño de un micrómetro se logró una eficiencia energética de hasta 3,4 %, superando el 3,2 % registrado por el Centro de Investigación Avanzada de Nanolitografía (Países Bajos) en 2019 y el 1,8 % de la Escuela Politécnica Federal de Zúrich (Suiza) en 2021.
Estos láseres de estado sólido pueden ser un sustituto de los de CO2 como fuente de alimentación de próxima generación para la litografía LPP-EUV. No obstante, aún se encuentran en una etapa experimental.
